特用化學品

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多晶矽蝕刻液	客製化
多晶矽蝕刻液多晶矽蝕刻液應用於半導體製程、矽晶圓拋光等製程。可依據客戶需求提供客製化蝕刻液。
金蝕刻液	客製化
金蝕刻液金蝕刻液應用光電相關產業等製程。可依據客戶需求提供客製化蝕刻液。
鉻蝕刻液	客製化
鉻蝕刻液鉻蝕刻液應用光電相關產業等製程。可依據客戶需求提供客製化蝕刻液。
氧化銦錫蝕刻液	客製化
氧化銦錫蝕刻液氧化銦錫刻液應用光電相關產業等製程。可依據客戶需求提供客製化蝕刻液。
墊底蝕刻液	客製化
墊底蝕刻液墊底蝕刻液應用於光電相關產業等製程。可依據客戶需求提供客製化蝕刻液。
均三甲苯 Mesityene	4L, 20L, 200L
均三甲苯 Mesityene 常用於蝕刻和電鍍。
40%氟化銨水溶液(電子級) 40%Ammonium Fluoride Solution(EG)	GAL, 20L
40%氟化銨水溶液(電子級) 40%Ammonium Fluoride Solution(EG) 氟化銨水溶液可用於玻璃蝕刻液。 CAS No.: 12125-01-8 含量：40~41% HF: 0.2% max 顏色(APHA): 7 max 比重: 1.11 pH: 6.0~7.5